Tantal rör sem notuð eru í hálfleiðara reitnum
Tantal rör gegna lykilhlutverki sem hátt - frammistöðuefni í hálfleiðara framleiðsluferlinu. Tantal (TA), með háan bræðslumark (um það bil 3000 gráðu), framúrskarandi leiðni, efnafræðilega óvirkni og vélrænni styrk, hefur bætt verulega framleiðsluvirkni og gæði vöru í hálfleiðara framleiðslu, sem stuðlar að þróun hálfleiðara tækni. Stöðugleiki þess og áreiðanleiki gerir það að lykilefni á þessu sviði. Að verða kjörið val til að framleiða hátt - nákvæmni hálfleiðara búnaður.
Lýsing
Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. veitir háa - gæði sjaldgæfra málma, aðallega með niobium hafnium ál 103, wolfram, tantalum, niobium, hafnium, títaníum, zirconium, nikkel, vanadium og alloys af hefðbundnum vinnsluprófum, sirconium, nikkel, vansadium og alloys af ráðstefnuaðferðum sem eru afgreiddir profíl. Vafningar, stangir, vír, rör, svo og djúpar unnar vörur eins og skip, deiglaði, sputtering skotmark, húðunarmarkmið, vélknúin hluta, há - Hitastig einangrunarskjái, hitunarþættir, ofnum (5}}}}}}}}}}} viðnám, o.s.frv.
Sem framleiðandi, birgir og útflytjandi Tantalum, veitum við hátt - hreinleika, hátt - hitastig, tæringu - ónæmt, geim-, varnarmál, her og sjávarverkfræði sérhæfðar vörur með áhyggjulausar ókeypis gæði og hagstæðari verð! Þjónusta við viðskiptavini er alltaf á netinu, svo þú hefur engar áhyggjur.
Einkenni og eiginleikar

Mikil bræðslumark og góð leiðni
Tantal hefur bræðslumark allt að 2996 gráðu C, sem gerir það kleift að vinna stöðugt í háhitaumhverfi. Tantal hefur framúrskarandi leiðni og er hentugur fyrir ýmis hátt - hitastig leiðandi forrit í hálfleiðara framleiðslu.

Efnafræðilegur stöðugleiki og lítill uppgufunarhraði
Tantal hefur framúrskarandi efnafræðilegan stöðugleika við hátt hitastig og er ekki auðveldlega viðbrögð við flestum lofttegundum og vökva, sem gerir það hentugt fyrir ætandi umhverfi. Tantal hefur afar lágt uppgufunarhraða við hátt hitastig og hentar til notkunar í lofttæmi eða lágu - þrýstingsumhverfi.

Mikil hreinleiki og vélrænn styrkur
Hálfleiðari framleiðsla krefst mjög mikils hreinleika og tantal rör eru venjulega mjög hreinsuð til að forðast óhreinindi sem hafa áhrif á afköst hálfleiðara tækja. Tantal hefur mikinn vélrænan styrk og þolir vélrænt álag við hátt hitastig.
Í hálfleiðara flísarframleiðslu verða tantal rör kjarna undirlag sputtering markmiðanna eftir nákvæmni vinnslu. 5N5 bekk (Purity 99.9995%) stórt - Stórt Tantal Target autt framleitt af Dongfang Tantalum iðnaði hefur verið beitt við útfellingu kopar samtengingar hindrunarlags í 7nm ferli, með kornastærð sem stjórnað var innan 20 μ m, og náði alþjóðlegu leiðandi stigum þykktareinangrunar á ± 3%. Dæmigert tilfelli sýnir að innlend 12 tommu skífu Fab með því að nota þessa tegund markefnis jók flísafrakstur um 12%og þjónustulífi markefnisins var framlengt í 2,3 sinnum það sem hefðbundin Títan markmið. Þessi frammistöðuforskot stafar af hinni einstöku kristalbyggingu Tantal - líkama hans miðju tenings grindurnar geta í raun bælað dreifingu koparatóms og forðast hringrás hringrásar.
0,15 mm Tantal þéttiinn sem notaður er í samanbrjótanlegum símum krefst innra blýrörsins til að standast 100000 beygingarpróf. Ultrafine tantal rörið (þvermál 0,8 mm, veggþykkt 0,05 mm) þróað með baoji yixintai hefur verið látinn kalda rúllu rafgreiningarferli, sem dregur úr ójöfnur yfir yfirborðinu í Ra0,1 μ m og lækkar ESR (jafngildir röð viðnáms) þéttarins í 5m Ω. Samkvæmt raunverulegum prófunargögnum Huawei P70 seríunnar bætir þessi tækni hratt hleðslu skilvirkni um 18% og rotnunarhlutfall getu er minna en 2% á þúsund klukkustundum í háhitaumhverfi 85 gráðu
Rafrænt starfsaðgerð Tantal (4,25 eV) er verulega hærri en kopar (4,0 eV) og títan (4.1 eV) og hægt er að framleiða þéttari þunnt filmubyggingu meðan á PVD ferli stendur. Tilraunagögn sýna að lekastraumþéttleiki Tantal hindrunarlags er 1-2 stærðargráðu lægri en títan nítríð, sem skiptir sköpum fyrir einangrun þrívíddar á 3D NAND minni árleg eftirspurn eftir hálfleiðara stig tantal er um 800 tonn, en hagkvæmni Tantalm ore getur aðeins mætt 60%.
Með byltingunni á hálfleiðara ferli hnúta undir 3nm er notkun tantal röranna teygir sig frá hefðbundnum hindrunarlagsefnum yfir í að skera - brún reitir eins og þrjú- víddar samþætt hitastjórnun og skammtafræðitæki. Á tæknilegu stigi hefur þróun nanoporous tantal rör (porosity 70% -90%) farið inn á flugmannastigið, með sérstöku yfirborðssvæði 200-300 m ²/g, sem getur bætt verulega undanfara nýtingarhraða atómlagaferlis (ALD). Markaðsspár sýna að alþjóðleg eftirspurn eftir tantal rörum fyrir hálfleiðara mun stækka við samsett árlegan vaxtarhraða 11,8% frá 2025 til 2030, með ólíkum samþættum umbúðum sem eru yfir 40%.
Þess má geta að nýjasta lykil steinefnalistinn sem bandaríska orkumálaráðuneytið (DOE) hefur sent frá sér hefur skráð tantal sem „afar mikilvægt efni“ og stefnumótandi gildi þess er að móta alþjóðlegt framboðskeðju landslag. Gert er ráð fyrir að Kína nái 70% innlendu skiptihlutfalli árið 2027 með samþættingu Yichun Tantal Ore Resources og bylting í 6n stig hreinsunartækni.
maq per Qat: tantal rör sem notuð eru í hálfleiðara sviði, Kína tantal rör sem notuð eru í hálfleiðara reitframleiðendum, birgjum, verksmiðju
Hringdu í okkur
Þér gæti einnig líkað






